利用GISAXS提取自对准多重图形化所得光栅的维度参数
应用物理
2020-01-31 v2 介观与纳米尺度物理
摘要
背景：为确保未来逻辑节点下一致且高质量的半导体生产，需要额外的计量工具。为此，掠入射小角X射线散射（GISAXS）正被考虑，因其测量快速且已证实能以高精度重建平均光栅线形。目的：应将GISAXS对光栅线形的测量扩展至节距小于50 nm的样品及其缺陷，并评估该方法性能。方法：使用GISAXS测量一系列节距为32 nm且故意引入pitchwalk的栅格。光栅线形及关联不确定性使用Maxwell求解器与马尔可夫链蒙特卡洛（MCMC）采样结合仿真库方法进行重建。结果：线形与pitchwalk总体上与已发表的透射小角X射线散射（SAXS）结果一致；但线高与线宽分别呈现(1.0 ± 0.2) nm与(2.0 ± 0.7) nm的偏差。复杂的数据评估导致相对较高的pitchwalk不确定性，介于0.5 nm与2 nm之间。结论：GISAXS作为具有复杂线形的小节距线光栅的计量工具展现出巨大潜力。更快速的仿真方法将能实现更准确的结果。
引用
@article{arxiv.1910.08532,
title = {Extracting Dimensional Parameters of Gratings Produced with Self-Aligned Multiple Patterning Using GISAXS},
author = {Mika Pflüger and R. Joseph Kline and Analía Fernández Herrero and Martin Hammerschmidt and Victor Soltwisch and Michael Krumrey},
journal= {arXiv preprint arXiv:1910.08532},
year = {2020}
}