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基于掠入射X射线荧光表征纳米结构以实现元素敏感剖面重构

应用物理 2021-11-02 v1

摘要

对于当前和下一代纳米结构的可靠制造,能够确定其材料组成和尺寸参数至关重要。利用掠入射X射线荧光技术(该技术借助X射线驻波场效应),可以以对结构和元素组成的高灵敏度研究纳米结构。使用Si3_3N4_4制成的层状光栅证明了这一点。基于有限元法的麦克斯韦求解器获得的严格场模拟允许以亚纳米分辨率确定元素种类的空间分布和几何形状。纳米结构日益增加的复杂性和对微小变化所需的高灵敏度迅速使数值模拟的维数灾难变成一个即使大规模并行化也无法合理解决的问题。需要新的优化方案,例如机器学习,以满足计量要求。我们展示了采用贝叶斯优化方法获得的重构结果,以减少计算量。

关键词

引用

@article{arxiv.2104.13749,
  title  = {Grazing incidence X-ray fluorescence based characterization of nanostructures for element sensitive profile reconstruction},
  author = {Anna Andrle and Philipp Hönicke and Philipp Schneider and Yves Kayser and Martin Hammerschmidt and Sven Burger and Frank Scholze and Burkhard Beckhoff and Victor Soltwisch},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2104.13749},
  year   = {2021}
}

备注

Event: SPIE Optical Metrology, 2019, Munich, Germany. arXiv admin note: text overlap with arXiv:1801.04157