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平面连续统的同痕延拓

几何拓扑 2008-11-04 v1

摘要

本文肯定性地解决了以下问题:设ZZ为平面\complex\complex中的一个连续统,并假设h:Z×[0,1]\complexh:Z\times [0,1]\to\complex是一个始于恒等映射的同痕。hh能否延拓为平面的一个同痕?我们将给出平面连续统ZZ中可及点的一个新刻画,并利用它证明可及点在同痕过程中保持不变。接下来我们证明该同痕可以延拓到双曲横截线上。证明中使用了度量外部射线的概念,它模仿了共形外部射线的概念,但在同痕过程中更易于控制。

关键词

引用

@article{arxiv.0811.0364,
  title  = {Extending Isotopies of Planar Continua},
  author = {Lex G. Oversteegen and E. D. Tymchatyn},
  journal= {arXiv preprint arXiv:0811.0364},
  year   = {2008}
}

备注

23 pages, 1 figure