掺杂拓扑绝缘体中的静电效应和能带弯曲
材料科学
2013-05-30 v3
摘要
我们通过为相互作用的紧束缚模型开发自洽方案,研究了掺杂拓扑绝缘体中的静电效应。除了表面电子之外,体载流子的存在在表面附近产生了固有的非均匀电荷密度,因此出现了能带弯曲效应。我们发现电子掺杂和空穴掺杂产生大小相似、符号相反的能带弯曲效应。额外表面掺杂剂的存在打破了这种近似的电子-空穴对称性,并显著影响能带弯曲的幅度。施加栅极电压可以产生一个以载流子密度消失为特征的耗尽区。我们发现耗尽区与体相之间过渡区的密度分布与施加的电压无关。在薄膜中,静电效应强烈依赖于载流子电荷密度。此外,我们发现衬底诱导的势能在超薄拓扑绝缘体薄膜中可以产生Rashba型自旋轨道耦合。我们计算了拓扑绝缘体薄膜中体态和表面态的分布,并确定了两种态在空间同一区域局域化的条件。
引用
@article{arxiv.1206.2043,
title = {Electrostatic effects and band-bending in doped topological insulators},
author = {Dimitrios Galanakis and Tudor D. Stanescu},
journal= {arXiv preprint arXiv:1206.2043},
year = {2013}
}
备注
9 pages, 10 figures