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半填充 Chern 带中电磁响应:接近拓扑临界性

强关联电子 2026-02-06 v2 介观与纳米尺度物理

摘要

我们评估了半填充 Chern 带中的电磁响应可观测量,跨越着由复合费米液体(CFL)和费米液体(FL)相之间的拓扑相变。虽然深入 CFL 相中存在尖锐的空洞等离子体模式,但我们展示在CFL 与 FL 之间的 proposed 连续相变临近时,该等离子体模式会被消耗。这一等离子体消耗现象源于涌现的规范场和类似 Dirac 费米子的谱。类似特征也发生在其他连续解离拓扑相变中,例如玻色系统中的 Laughlin 相变到超流相变。具体而言,这种消耗行为在相边界上延续一定范围,因此即使该相变是弱第一性的,我们也期待它会持续存在。此外,我们分析了 Drude 权重、波矢相关电导率以及跨越这些拓扑相变的手性镜像效应的行为。

关键词

引用

@article{arxiv.2602.02428,
  title  = {Electromagnetic Response of a Half-Filled Chern Band near Topological Criticality},
  author = {Xinlei Yue and Fabian Pichler and Michael Knap and Ady Stern},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2602.02428},
  year   = {2026}
}

备注

9 pages, 3 figures; v2: references added