利用邻位衬底实现混合相BiFeO3薄膜中的畴调控

Lu You; Shintaro Yasui; Xi Zou; Hui Ding; Zuhuang Chen; Weigang Chen; Lang Chen; Hiroshi Funakubo; Junling Wang

doi:10.1063/1.4717986

利用邻位衬底实现混合相BiFeO3薄膜中的畴调控

材料科学 2015-06-04 v1

作者: Lu You , Shintaro Yasui , Xi Zou , Hui Ding , Zuhuang Chen , Weigang Chen , Lang Chen , Hiroshi Funakubo , Junling Wang

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摘要

通过压电力显微镜和高分辨率X射线倒易空间映射，研究了在邻位LaSrAlO4衬底上生长的高应变BiFeO3薄膜的结构和铁电畴变体。通过衬底表面的对称性破缺，可以显著减少高应变MC相BiFeO3中的铁弹畴变体。在大倾角衬底上可获得单畴薄膜，同时混合相纳米畴中的结构变体减少。这些发现有助于更好地理解应变驱动同形相界系统中的相演化和极化旋转过程。

关键词

BiFeO3薄膜混合相畴调控邻位衬底铁弹畴同形相界压电力显微镜 X射线倒易空间映射

引用

@article{arxiv.1203.0256,
  title  = {Domain tuning in mixed-phase BiFeO3 thin films using vicinal substrates},
  author = {Lu You and Shintaro Yasui and Xi Zou and Hui Ding and Zuhuang Chen and Weigang Chen and Lang Chen and Hiroshi Funakubo and Junling Wang},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1203.0256},
  year   = {2015}
}

备注

15 pages, 4 figures

利用邻位衬底实现混合相BiFeO3薄膜中的畴调控

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关键词

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