LaSrAlO4衬底上应变外延BiFeO3薄膜中的纳米尺度畴

Zuhuang Chen; Lu You; Chuanwei Huang; Yajun Qi; Junling Wang; Thirumany Sritharan; Lang Chen

doi:10.1063/1.3456729

LaSrAlO4衬底上应变外延BiFeO3薄膜中的纳米尺度畴

材料科学 2011-01-10 v1

作者: Zuhuang Chen , Lu You , Chuanwei Huang , Yajun Qi , Junling Wang , Thirumany Sritharan , Lang Chen

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摘要

采用脉冲激光沉积法在(001) LaSrAlO4单晶衬底上外延生长了不同厚度的BiFeO3薄膜。高分辨率X射线衍射测量显示，大失配应变稳定了一种c轴晶格常数约为4.65 Å的类四方相。此外，在膜厚约50 nm及以上时，还检测到c轴晶格常数约为3.99 Å的类菱方相，以释放大的失配应变。面内压电力显微镜研究显示，类四方区域存在清晰的信号和自组装的纳米尺度条状畴结构。这些发现揭示了承受大压应变的BiFeO3薄膜中纳米尺度畴图案的复杂图景。

关键词

BiFeO3薄膜外延应变类四方相类菱方相纳米尺度条状畴压电力显微镜

引用

@article{arxiv.1101.1343,
  title  = {Nanoscale domains in strained epitaxial BiFeO3 thin Films on LaSrAlO4 Substrate},
  author = {Zuhuang Chen and Lu You and Chuanwei Huang and Yajun Qi and Junling Wang and Thirumany Sritharan and Lang Chen},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1101.1343},
  year   = {2011}
}

备注

14 pages, 4 figures

LaSrAlO4衬底上应变外延BiFeO3薄膜中的纳米尺度畴

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关键词

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