$\gamma^{*}\gamma^{*} \to \pi \pi$ 过程的色散分析
高能物理 - 唯象学
2020-03-19 v2
摘要
在本文中,我们对双虚光子-光子散射到两个π介子的过程进行了色散分析,能量上限为1.5 GeV。通过幺正性,该过程对强子末态相互作用非常敏感。对于波,我们采用耦合道分析,可同时描述与两种共振态。在更高能量下,作为主导结构出现,我们将其近似为波中的单道重散射。在色散方法中,后者需要考虑道和道矢量介子交换左手割线,这些割线在大的类空虚度下表现出类反常行为。在本文中,我们展示了如何利用围道变形简便地纳入此类行为。此外,我们特别关注螺旋度振幅的运动学约束,并明确展示其关联。
引用
@article{arxiv.1909.04158,
title = {Dispersive analysis of the $\gamma^{*}\gamma^{*} \to \pi \pi$ process},
author = {Igor Danilkin and Oleksandra Deineka and Marc Vanderhaeghen},
journal= {arXiv preprint arXiv:1909.04158},
year = {2020}
}
备注
8 pages, 3 figures