中文

$\boldsymbol{\phi \to \gamma \pi^0 \pi^0}$ 过程的色散分析

高能物理 - 唯象学 2026-02-18 v1 高能物理 - 实验 核理论

摘要

我们在色散框架中对辐射衰变 ϕγπ0π0\phi \to \gamma \pi^0 \pi^0 进行分析,其中双 π 子系统经历强最终态相互作用,覆盖 f0(500)f_0(500)f0(980)f_0(980) 区域。我们采用耦合通道 Muskhelishvili-Omn\`es 框架,以处理两个标量共振以及 Born 和矢形质子交换引起的跨通道奇点。我们明确验证了当选取渐进有界的等价 Omn\`es 矩阵时,修正与标准 Muskhelishvili-Omn\`es 表示之间的等价性,并在衰变动力学中采用标准表示。这导致我们首次获得无参数的色散预测,用于 K Born rescattering,这在该过程中占据主导贡献。为获得对 KLOE 和 SND 数据的良好拟合,我们采用一次减法的耦合色散关系,包含更重的左手切贡献和两个未知的减法常数。结果表明 ππ\pi\pi 散射、γγ\gamma\gamma 融合和 ϕ\phi 辐射衰变之间的数据在一致性上得到验证,从而验证了 underlying 色散形式化方法以及用于 hadronic Omn\`es 矩阵和左手切的输入。

关键词

引用

@article{arxiv.2602.15100,
  title  = {Dispersive analysis of the $\boldsymbol{\phi \to \gamma \pi^0 \pi^0}$ process},
  author = {Bai-Long Hoid and Igor Danilkin and Marc Vanderhaeghen},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2602.15100},
  year   = {2026}
}

备注

11 pages, 3 figures