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Ti 掺杂蓝宝石中的缺陷复合体:第一性原理研究

材料科学 2018-01-12 v3

摘要

进行了第一性原理计算以研究 Ti 掺杂α\alpha-Al2_2O3_3晶体中缺陷复合体的形成。在 Al-Ti-O 相关相的不同平衡条件下,计算了孤立 Ti3+^{3+}和 Ti4+^{4+}缺陷、Ti 离子对、三重态和四重态以及 Al 空位的形成能。考虑到整个系统的电荷中性,我们确定了简单缺陷和复杂缺陷的平衡浓度,以及α\alpha-Al2_2O3_3晶体中 Ti 的总平衡浓度。结果表明,复杂缺陷的平衡浓度可以与孤立取代型 Ti3+^{3+}和 Ti4+^{4+}缺陷的浓度处于同一数量级甚至更大。研究发现,在 Ti 缺乏的条件下,孤立缺陷的相对分数增加,平衡向 Ti4+^{4+}缺陷偏移。得到了孤立缺陷和复杂缺陷平衡浓度之间的普适关系。计算了具有复杂缺陷系统的能带结构,并发现了由此类缺陷引起的带隙内的额外能级。

关键词

引用

@article{arxiv.1708.08850,
  title  = {Defect complexes in Ti-doped sapphire: A first principles study},
  author = {L. Yu. Kravchenko and D. V. Fil},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1708.08850},
  year   = {2018}
}

备注

12 pages