中文

基于 BSIM 与 EKV 模型的 MOSFET 器件低温建模

应用物理 2021-04-20 v1

摘要

扭结效应是反型型体硅 MOSFET 器件低温模型的一大障碍。本快报使用两种方法修正扭结效应:改进进化策略(MES)与双模型建模(BSIM3v3 与 EKV2.6)。两种方法均基于扭结效应原理。第一种方法考虑碰撞电离与衬底电流诱导体效应(SCBE),另一种考虑冻结衬底电势的变化。通过应用上述两种方法,可修正扭结以改善仿真数据与测量数据间的一致性,并获得更精确的模型参数。这两种方法可用于后续的低温器件建模与电路设计工作。

关键词

引用

@article{arxiv.2104.08467,
  title  = {Cryogenic Modeling of MOSFET Device Based on BSIM and EKV Models},
  author = {Tengteng Lu and Yuanke Zhang and Yujing Zhang and Jun Xu and Guoping Guo and Chao Luo},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2104.08467},
  year   = {2021}
}

备注

4 pages, 4 figures