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更新过程下的接触过程 II

概率论 2019-05-24 v3

摘要

我们继续研究在 companion paper 中发起的更新接触过程,其中我们证明了若到达间隔分布 μ\mu 的尾重于某个 α<1\alpha <1tαt^{-\alpha}(加上辅助正则条件),则临界值消失。在本文中我们证明,若 μ\mu 具有递减风险率且尾被 tαt^{-\alpha} 所界(α>1\alpha >1),则在一维情形下临界值为正。一个更稳健且简单得多的论证表明,只要到达间隔分布具有有限二阶矩,则任意维度下临界值均为正。

关键词

引用

@article{arxiv.1803.01460,
  title  = {Contact process under renewals II},
  author = {Luiz Renato Fontes and Thomas S. Mountford and Maria Eulalia Vares},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1803.01460},
  year   = {2019}
}

备注

22 pages