在搅动微粒上组合溅射沉积 CrMnFeCoNi 高熵合金薄膜
材料科学
2022-07-12 v1
摘要
提出了一种在微粒上组合溅射沉积薄膜的方法。该方法为实验室规模的磁控溅射系统开发,并使用压电致动器通过振荡搅动微粒。定制部件能够同时搅动多达九批独立的微粒。由于搅动,微粒的整个表面可暴露于溅射通量,从而可被薄膜完全覆盖。通过溅射 CrMnFeCoNi 高熵合金靶,将聚苯乙烯微球(单分散直径 500 um)、Fe 合金颗粒(平均尺寸 300 um)和 NaCl 盐颗粒(平均尺寸 350 um)的分离批次同时涂覆均匀薄膜。相比之下,沉积在团聚 Al 颗粒(平均尺寸 5 um)上的 CrMnFeCoNi 薄膜仅部分覆盖颗粒表面。通过共溅射 CrMn、FeCo 和 Ni 靶,将九批 Al 颗粒(平均尺寸 25 um)涂覆具有成分梯度的 CrMnFeCoNi 薄膜。这些沉积证明了以均匀薄膜(从单质到多元成分)涂覆不同类型微粒以及在均匀微粒上沉积具有成分梯度薄膜的能力。
引用
@article{arxiv.2207.04826,
title = {Combinatorial sputter deposition of CrMnFeCoNi high entropy alloy thin films on agitated particles},
author = {Florian Lourens and Alfred Ludwig},
journal= {arXiv preprint arXiv:2207.04826},
year = {2022}
}