超越非希尔效应：基于异常点界限带的规模控制拓扑

我们建立了一种 novel 机制，用于控制非厄米系统中拓扑相变，这种机制受系统尺寸的控制。基于一种称为异常界限(EB)带工程的新范式，其机制依赖于异常点附近独特的临界尺度行为，与众所周知的非厄米skin效应完全无关。通过一系列假设模型，我们解析并数值演示了拓扑相变如何随系统尺寸而变化，随之演变出日益精细化的拓扑相位边界。our方法可普遍应用于设计多维格子中的规模相关带，无论是有能隙还是无能隙，挑战了既定的临界行为及纠缠行为。它可在任何具有灵活耦合或多轨道单元细胞的非厄米平台上实现，例如光子晶体，以及经典和量子电路。识别这种新的EB带机制为工程化带结构提供了通过规模相关现象独特性于非厄米系统的新设计原则。