由再生积碳放电产生的直流磁控溅射非晶碳膜
材料科学
2016-09-27 v1
摘要
我们展示了在圆柱形空心阴极（CHC）直流磁控溅射中金属基底上碳涂层的成果。这是一种在 CHC 磁控溅射中通过再生积碳放电制备非晶碳膜的新技术。碳膜沉积在处于氖气环境中的 Cu 和 Al 基底上，并与在 80 埃、氦气背景下通过石墨电极间常规电弧放电在相同材料上产生的碳烟膜进行比较。利用在线发射光谱、Raman 光谱和 Fourier 变换红外光谱、X 射线衍射（XRD）和扫描电子显微镜（SEM）对薄膜进行表征。Raman 光谱揭示了电弧放电中存在石墨和类金刚石结构，而在 CHC 磁控溅射中，类石墨结构占主导地位。电弧放电的 XRD 图谱显示，在铝样品中存在纳米尺度的菱方和六方型 Al4C3 析出物，在铜样品中可能形成了金刚石和六方碳，而在磁控溅射中我们获得了非晶碳膜。表面的 SEM 图像显示，电弧放电中存在松散团聚的碳颗粒，而磁控溅射的结构规则，边缘平滑且晶粒细小。
引用
@article{arxiv.1609.08005,
title = {Amorphous carbon films in direct current magnetron sputtering from regenerative sooting discharge},
author = {Sumera Javeed and Sumera Yamin and Sohail Ahmad Janjua and Kashif Yaqub and Afshan Ashraf and Sumaira Zeeshan and Mazhar Mehmood and Muhammad Anwar-ul-Haq and Shoaib Ahmad},
journal= {arXiv preprint arXiv:1609.08005},
year = {2016}
}
备注
17 pages, 7 figures