通过直流磁控共溅射生长的单晶 CrSb(0001) 薄膜
材料科学
2025-11-26 v2 介观与纳米尺度物理
摘要
近期交替磁性的发现重新激发了人们对生长 CrSb 的 NiAs 相多晶型外延薄膜的兴趣。本文描述了由同构非磁性 PtSb 缓冲层支撑的高质量单晶 CrSb(0001) 薄膜的磁控溅射制备与表征。X 射线衍射和扫描透射电子显微镜表明，这些薄膜是纯相的，并且具有极高的晶体质量（镶嵌度约 0.05 度），同时没有扩展晶体学缺陷。扫描电子显微镜和原子力显微镜均证实了它们光滑且均匀的形貌。此外，通过电子探针微分析和 X 射线荧光发现，我们薄膜的元素组成接近化学计量比。因此，所制备的样品为进一步研究 CrSb 的材料性质提供了一个理想的平台。
引用
@article{arxiv.2502.21113,
title = {Single-crystalline CrSb(0001) thin films grown by dc magnetron co-sputtering},
author = {S. P. Bommanaboyena and C. Müller and M. Jarošová and K. Wolk and S. Telkamp and P. Zeng and F. Křížek and T. Uchimura and A. Badura and K. Olejník and D. Scheffler and K. Beranová and S. Banerjee and M. Ledinský and H. Reichlová and T. Jungwirth and L. Horák and D. Kriegner},
journal= {arXiv preprint arXiv:2502.21113},
year = {2025}
}