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低密度高迁移率 AlGaN/GaN 场效应管中声子散射

材料科学 2009-11-11 v1

摘要

我们报告了变密度 AlGaN/GaN 场效应管中二维电子气迁移率 μ\mu 的温度依赖性,载流子密度范围为 0.4×10120.4\times10^{12} cm2^{-2}3.0×10123.0\times10^{12} cm2^{-2},最高迁移率达到 80,000 cm2^{2}/Vs。于 20 K 至 50 K 之间,我们观察到 μac1=αT\mu_{ac}^{-1} = \alpha T 的线性关系,表明声子散射主导了迁移率的温度依赖性,其中 α\alpha 随 2D 电子密度减小而单调递增。该行为与退化电子气的散射预测相矛盾,但与考虑热广度及电子屏蔽温度依赖性的计算结果一致。我们的数据暗示形变势 DD 为 12-15 eV。

关键词

引用

@article{arxiv.cond-mat/0503638,
  title  = {Acoustic phonon scattering in a low density, high mobility AlGaN/GaN field effect transistor},
  author = {E. A. Henriksen and S. Syed and Y. Ahmadian and M. J. Manfra and K. W. Baldwin and A. M. Sergent and R. J. Molnar and H. L. Stormer},
  journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0503638},
  year   = {2009}
}

备注

3 pages, 2 figures, RevTeX. Submitted to Appl Phys Lett