磁控溅射中氧流量对 ITO 薄膜影响的新研究
材料科学
2013-11-26 v1
摘要
通过直流磁控溅射并在不同氧流量下，在玻璃基板上沉积了 ITO 薄膜。研究发现，随着氧流量的增加，光吸收降低且光吸收边发生蓝移。通过 XPS 对氧空位浓度进行了表征和分析。结果表明，氧空位浓度随氧流量的增加而增加，这与当前的理解不同。利用基于密度泛函理论的第一性原理计算了与不同空位浓度相关的 ITO 能带结构。计算结果表明，氧空位的增加导致费米能级以下的能带增加以及第二个带隙的出现，这解释了氧空位对蓝移的影响。
引用
@article{arxiv.1311.5943,
title = {A new investigation of oxygen flow influence on ITO thin films by magnetron sputtering},
author = {Aqing Chen and Kaigui Zhu and Huicai Zhong and Qingyi Sha and Guanglu Ge},
journal= {arXiv preprint arXiv:1311.5943},
year = {2013}
}