非晶五氧化二钒薄膜的紫外激光改性及选择性离子束刻蚀
应用物理
2020-01-10 v1 材料科学
摘要
我们报道了准分子激光对非晶五氧化二钒薄膜的改性与图形化结果。采用湿法正性光刻胶型与氩离子束负性光刻胶型刻蚀技术对紫外改性薄膜进行显影。研究发现，与标准电子材料相比，V2O5薄膜具有足够的电阻率，因此有望作为亚微米光刻的掩模。
引用
@article{arxiv.2001.03054,
title = {UV-laser modification and selective ion-beam etching of amorphous vanadium pentoxide thin films},
author = {Alexander Cheremisin and Vadim Putrolaynen and Andrei Velichko and Alexander Pergament and Nikolay Kuldin and Alexander Grishin},
journal= {arXiv preprint arXiv:2001.03054},
year = {2020}
}
备注
4 pages, 2 figures