利用湿法化学刻蚀剂通过氧化物层外延沉积与光刻结构的重复步骤制备可变电阻
材料科学
2013-01-22 v1 介观与纳米尺度物理
摘要
可变电阻由具有钙钛矿晶体结构的外延SrRuO3（SRO）、La0.67Sr0.33MnO3（LSMO）和SrTiO3层构建而成。每一层均通过光刻方法单独图案化。优化的湿法化学刻蚀剂以及在有机溶剂中的若干抛光步骤，使得后续层具有良好的外延性，可与在原始基底上的外延相媲美。使用高碘酸盐作为SRO的氧化剂，以及碘化物与抗坏血酸作为LSMO的还原剂，来侵蚀这些耐化学腐蚀的氧化物。最终器件的电导变化方式与先前描述的使用掩模定义的可变电阻相似。
引用
@article{arxiv.1301.4828,
title = {Variable resistor made by repeated steps of epitaxial deposition and lithographic structuring of oxide layers by using wet chemical etchants},
author = {Dieter Weber and Róza Vöfély and Yuehua Chen and Yulia Mourzina and Ulrich Poppe},
journal= {arXiv preprint arXiv:1301.4828},
year = {2013}
}