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通过掺杂调控二维 IV 族单硫族化物的能量势垒

介观与纳米尺度物理 2020-06-19 v1 材料科学

摘要

结构简并支撑了下一代二维材料的铁性行为,并导致其在外场、电荷掺杂和/或温度下发生奇特的二维结构转变。这些转变难易程度的最直接指标是{\em 弹性能量势垒},定义为(简并)结构基态原胞与结构对称性升高的原胞之间的能量差。二维材料靠近块体衬底会影响发生这些转变的临界场和/或温度大小,其首要效应是相对电荷转移,可能触发结构量子相变。基于此物理图像,我们报道了适度电荷掺杂(每原胞 0.2-0.2+0.2+0.2 个电子范围内)对铁弹性黑磷与九种铁电单硫族化物单层的弹性能量势垒的影响。弹性能量势垒 JsJ_s 是产生 Pnm21P4/nmmPnm2_1\to P4/nmm 二维结构转变所需能量。类似于对铁弹性 SnO 单层弹性能量势垒的效应,IV 族单硫族化物单层对相似掺杂量表现出可调的弹性能量势垒:在不超过每原子十分之一电子或空穴的适度空穴(电子)掺杂下,可实现对 JsJ_s 的降低(升高)。

关键词

引用

@article{arxiv.2005.03649,
  title  = {Tuning energy barriers by doping 2D group-IV monochalcogenides},
  author = {Albert Du and Zachary Pendergrast and Salvador Barraza-Lopez},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2005.03649},
  year   = {2020}
}

备注

Submitted to Journal of Applied Physics