商业 22FDX 中的运输表征与量子点耦合
介观与纳米尺度物理
2025-01-20 v1 量子物理
摘要
全球各地的不同团队一直在使用 GlobalFoundries 22nm 平台（22FDX）进行工作，目的是 industrialize 制造 Si 自旋量子比特。为指导这一努力，我们对六种 foundry 参考工艺（POR）进行了系统性研究。我们以有效迁移率作为衡量标准，研究栅极堆栈、通道类型和背偏置随温度变化的影响。通过这一筛选过程，我们选出了允许沿 Si 通道的长度和宽度耦合量子点的数据。我们呈现具有清晰且规则蜂窝图案的稳定图，蜂窝图中未观察到任何杂项因素，如掺杂剂。通过将这些结果与室温和低温仿真相结合，我们提供了潜在技术优化的见解，展示了量子比特前筛选协议的实用性以及在 FDSOI（全硅绝缘层）量子比特平台中利用正向体偏置的优势。
引用
@article{arxiv.2501.10146,
title = {Transport characterization and quantum dot coupling in commercial 22FDX},
author = {Giselle A. Elbaz and Pierre-Louis Julliard and Mikaël Cassé and Heimanu Niebojewski and Benoit Bertrand and Grégoire Roussely and Valentin Labracherie and Maud Vinet and Tristan Meunier and Bruna Cardoso Paz},
journal= {arXiv preprint arXiv:2501.10146},
year = {2025}
}
备注
7 pages, 12 figures + 2 tables