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余法分布空间的拓扑

泛函分析 2024-06-04 v3

摘要

给定闭流形 MM 与闭正则子流形 LL,考虑相应的局部凸空间 I=I(M,L)I=I(M,L)(余法分布空间,带其自然拓扑)以及余法密度空间强对偶 I=I(M,L)=I(M,L;Ω)I'=I'(M,L)=I(M,L;\Omega)'。证明了 II 是桶型、超 Borel 空间、网型、Montel、无环 LF-空间,且 II' 是完备 Montel 空间,是 Borel 桶型空间的商投影极限。在余维数为一的情形,对支撑于 LL 的余法分布子空间 KIK\subset I 及其强对偶 KK' 证明了类似性质与附加刻画。我们构造局部凸 Hausdorff 空间 JJ 与连续线性映射 IJI\to J,使得序列 0KIJ00\to K\to I\to J\to 0 以及转置序列 0JIK00\to J'\to I'\to K'\to 0 均为局部凸空间间连续线性映射范畴中的短正合列。最后,证明了在分布空间中 II=C(M)I\cap I'=C^\infty(M)。在另一出版物中,这些结果被用于证明紧叶状流形 (M,F)(M,F) 上简单叶状流 ϕ={ϕt}\phi=\{\phi^t\} 的 Lefschetz 迹公式。该公式描述了由 ϕ\phi 保叶上诱导作用 ϕ={ϕt}\phi^*=\{\phi^{t\,*}\} 在叶状电流复形的约化上同调 HˉI(F)\bar H^\bullet I(F)HˉI(F)\bar H^\bullet I'(F)(在叶处为余法与对偶余法)上定义的 Lefschetz 分布 Ldis(ϕ)L_{\text{\rm dis}}(\phi)

关键词

引用

@article{arxiv.2304.00798,
  title  = {Topology of the space of conormal distributions},
  author = {Jesús A. Álvarez López and Yuri A. Kordyukov and Eric Leichtnam},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2304.00798},
  year   = {2024}
}

备注

55 pages, index of notation