对角线的加厚与交错距离
代数拓扑
2021-11-16 v5 代数几何
摘要
给定拓扑空间 ,加厚核是关于 的一个单态预层,取值于 上导出核的单态范畴。双加厚核定义于 上。对此类加厚核,自然地在 上层导出范畴中关联一个交错距离。我们证明,只要加厚核定义于包含 的区间上,其便存在且唯一,从而使我们能在两种不同情形下构造(双)加厚。第一,当 为“良”度量空间时,从小对角线的通常加厚出发。关联的交错距离满足稳定性,且 Lipschitz 核给出 Lipschitz 映射。第二,利用 [GKS12],当 为流形且给定余切丛上一个非正 Hamilton 同伦时。若 是具有严格正凸半径的完备黎曼流形,我们证明其为良度量空间,且对角线的两个双加厚核——一个关联距离,另一个关联测地流——相一致。
引用
@article{arxiv.2006.13150,
title = {Thickening of the diagonal and interleaving distance},
author = {Francois Petit and Pierre Schapira},
journal= {arXiv preprint arXiv:2006.13150},
year = {2021}
}
备注
Many small corrections, section 3.2 reorganized and section 3.3 completely rewritten with new proofs