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4H-SiC 低增益雪崩二极管的仿真

仪器与探测器 2022-06-22 v1

摘要

碳化硅器件(4H-SiC)在理论上具有潜在的抗辐射硬度、高饱和载流子速度和低温敏感性。硅低增益雪崩二极管(LGAD)已被验证具有优异的时间性能。因此,本文引入 4H-SiC LGAD 以应用于探测最小电离粒子(MIPs)。我们在解析分析后提供了确定增益层厚度与掺杂浓度的指导。我们的设计采用增益层厚度 dgain=0.5 μmd_{gain}=0.5~\mu m。我们设计了两种具有两类电场的 4H-SiC LGAD,并利用 TCAD 工具仿真了相应的漏电流、电容与增益。通过对仿真结果的分析,讨论了两类 4H-SiC LGAD 的优缺点。

关键词

引用

@article{arxiv.2206.10191,
  title  = {Simulation of the 4H-SiC Low Gain Avalanche Diode},
  author = {Tao Yang and Yuhang Tan and Congcong Wang and Xiyuan Zhang and Xin Shi},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2206.10191},
  year   = {2022}
}

备注

9 pages, 11 figures