PDMS的选择性刻蚀：刻蚀作为一种负性抗蚀剂
应用物理
2018-05-09 v1
摘要
在这项工作中，作者首次展示如何将无添加剂的固化PDMS用作负性抗蚀剂材料，演示了PDMS微结构的制备并测试了所制微结构的溶剂耐受性。PDMS层厚度为45 um和100 um，辐照采用聚焦质子微束以不同注量进行。辐照后，样品用硫酸刻蚀，硫酸完全去除未辐照的PDMS，但保留那些接受足够高注量的结构完好。还测定了未辐照PDMS的刻蚀速率。那些接受至少7.5*10^15 ion*cm-2注量的结构即使在刻蚀19小时后也未显示任何降解迹象。作为演示，制备了45 um和100 um高、高深宽比、高质量、无畸变的微结构，其侧壁光滑且垂直。将所制微结构浸入多种溶剂和某些酸中以测试其兼容性。发现未辐照PDMS不能耐受，而辐照PDMS微结构可耐受氯仿、正己烷、甲苯和硫酸。氢氟酸对未辐照和辐照PDMS均有刻蚀作用。
引用
@article{arxiv.1712.03119,
title = {Selective etching of PDMS: etching as a negative tone resist},
author = {S. Z. Szilasi and L. Juhasz},
journal= {arXiv preprint arXiv:1712.03119},
year = {2018}
}
备注
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