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铜中 subsurface Ag 与 Ge 杂质的扫描隧穿谱研究

介观与纳米尺度物理 2021-11-30 v2 材料科学

摘要

我们利用低温扫描隧穿显微镜研究埋于Cu(100)表面下方的单个Ge和Ag杂质。局域态密度中的干涉图样是体杂质的表面散射特征,源于三维Friedel振荡和电子聚焦效应。比较等电子的d散射体Ag与sp散射体Ge可区分杂质散射与宿主的贡献。利用平面波紧束缚模型提取了与能量无关的有效散射相移,显示两种物种具有相近数值。与ab-initio计算的比较表明Ge杂质处存在非相干sp散射过程。由于两种散射体在谱上均均匀,干涉图样的扫描隧穿谱给出了体电子结构的实空间特征。我们发现两种物种在零偏压附近均有扭折,将其归因于多体效应导致的能带结构重整化,可用Debye自能和出乎意料高的电声耦合参数λ\lambda描述。我们提出这可能源于表面附近体内的传播。

关键词

引用

@article{arxiv.2109.03070,
  title  = {Scanning Tunneling Spectroscopy of Subsurface Ag and Ge Impurities in Copper},
  author = {Thomas Kotzott and Mohammed Bouhassoune and Henning Prüser and Alexander Weismann and Samir Lounis and Martin Wenderoth},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2109.03070},
  year   = {2021}
}

备注

14 pages main text, 10 figures, and 17 pages supplementary information, 10 figures