具有导带各向异性的金属电阻率标度模型
介观与纳米尺度物理
2018-03-14 v3
摘要
人们普遍理解金属薄膜的电阻率随膜厚标度主要源于晶界与边界表面散射。近来,若干实验与第一性原理模拟揭示了晶体取向对电阻率标度的影响。常用电阻率标度模型无法捕捉晶体取向,且目前缺乏对其影响的定性理解。本工作中,我们推导了一个电阻率标度模型,可同时捕捉晶界与边界表面散射以及能带结构的各向异性。该模型应用于 Cu 与 Ru 薄膜,其导带分别为(准)各向同性与各向异性。在用第一性原理模拟标定各向异性后,将电阻率标度模型与实验电阻率数据比较,并可为织构 Ru 识别出拟合晶界反射系数的重正化。
引用
@article{arxiv.1711.00796,
title = {Resistivity scaling model for metals with conduction band anisotropy},
author = {Miguel De Clercq and Kristof Moors and Kiroubanand Sankaran and Geoffrey Pourtois and Shibesh Dutta and Christoph Adelmann and Wim Magnus and Bart Sorée},
journal= {arXiv preprint arXiv:1711.00796},
year = {2018}
}
备注
12 pages, 7 figures