B 工厂中 $e^+ e^- \to J/\psi(\psi(2S))+\chi_{cJ}$ (J=0,1,2) 的 QCD 修正

我们在非相对论性 QCD 中，解析计算了 $e^+ e^- \to J/\psi(\psi(2S))\chi_{cJ}$ (J=0,1,2) 在 $\alpha_s$ 的次领头阶 (NLO) 的双粲夸克产生截面，并确认了这些过程的因子化。与 $\chi_{c0}$ 产生（其 NLO 修正大且为正）相反，$\chi_{c1,2}$ 产生的 NLO 修正可能为负，导致当 $\mu = 2 m_{c}$ 时，J=1 和 2 的 $K$ 因子分别降至 0.91 和 0.78。因此，NLO QCD 修正显著增大了 $\chi_{c0}$ 与 $\chi_{c1,2}$ 截面之间的差异。这可以解释为什么实验上观测到 $e^+ e^- \to J/\psi(\psi(2S))\chi_{c0}$ 而非 $e^+ e^- \to J/\psi(\psi(2S))\chi_{c1,2}$。此外，对于 $J/\psi(\psi(2S))\chi_{c1,2}$，NLO QCD 修正显著减小了 $\mu$ 依赖性，并给出了具有较小理论不确定性的预言。