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CeRh$_6$Ge$_4$中压力依赖的电子结构

强关联电子 2020-12-01 v1 材料科学

摘要

利用最先进的动力学平均场理论结合密度泛函理论方法,我们对铁磁量子临界材料候选者CeRh6_6Ge4_4的温度和压力依赖电子结构进行了系统研究。在-3.9 GPa和-8.3 GPa下,Ce-4ff占据数变化、局域磁化率和低频电子自能行为表明Ce-4ff电子处于局域态;而在6.5 GPa和13.1 GPa下,这些量表明Ce-4ff电子处于巡游态。与相干Kondo屏蔽相关的特征温度在卸去外压至约0.8 GPa时逐渐抑制到0,表明一个局域量子临界点。有趣的是,动量分辨谱函数显示即使在局域态一侧,Ce-4ff与传导电子之间沿Γ\Gamma-A方向仍存在高度各向异性的k\mathbf{k}依赖杂化,导致其间产生杂化能隙。计算预测在局域磁矩侧有8个费米面片,在Kondo相干态下有6个片。最后,0.8 GPa下的自能可很好地由边际费米液体形式拟合,给出线性温度依赖的电阻率。

关键词

引用

@article{arxiv.2011.14256,
  title  = {Pressure Dependent Electronic Structure in CeRh$_6$Ge$_4$},
  author = {Chao Cao and Jian-Xin Zhu},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2011.14256},
  year   = {2020}
}