金属/金属界面电子输运的垂直电流研究
材料科学
2015-05-13 v1
摘要
我们回顾了在电流垂直于平面(CPP)几何结构中，关于电子在两种不同金属(M1/M2)界面处散射的研究成果。在此几何结构中，固有量是比电阻AR，即CPP电流流过的面积乘以CPP电阻的乘积。我们描述了非磁/非磁(N1/N2)和铁磁/非磁(F/N)配对的结果。我们特别关注M1/M2晶格匹配（即具有相同晶体结构且晶格参数差异在约1%以内）的情况，因为在这些情况下，2AR的无自由参数计算与测量值惊人地吻合。但我们也列出并简要讨论了M1/M2不晶格匹配的情况，即它们具有不同的晶体结构，或晶格参数相差几个百分点。在这些情况下，已发表的2AR计算结果与测量值的吻合程度并不理想。
引用
@article{arxiv.0906.0936,
title = {Perpendicular-current Studies of Electron Transport Across Metal/Metal Interfaces},
author = {W. P. Pratt and J. Bass},
journal= {arXiv preprint arXiv:0906.0936},
year = {2015}
}
备注
6 pages, 2 figures, 2 tables. In Press: Applied Surface Science