一种测量F/N界面电子自旋翻转的方法及其在Co/Cu中的应用
材料科学
2015-05-14 v1
摘要
我们描述了一种利用垂直面电流（CPP）几何结构来测量参数delta(F/N)的技术，该参数表征了铁磁/非磁（F/N）金属界面处电子自旋的翻转。该技术涉及测量一个样品的CPP磁电阻，该样品包含嵌入在20 nm厚的对称Py基双交换偏置自旋阀中心Cu层内的铁磁耦合[F/N]x n多层膜。为了聚焦于delta(F/N)，F层和N层的厚度被做得远小于其自旋扩散长度。我们使用F/N = Co/Cu测试了该技术。在无可调参数下进行分析，得出的结果与delta(Co/Cu) = 0不一致，但与我们先前delta(Co/Cu) = 0.25 (+/- 0.1)的值一致。将delta(Co/Cu)作为可调参数，得出delta(Co/Cu) = 0.33 (+0.03/-0.08)。
引用
@article{arxiv.0912.4515,
title = {A way to measure electron spin-flipping at F/N interfaces and application to Co/Cu},
author = {B. Dassonneville and R. Acharyya and H. Y. T. Nguyen and R. Loloee and W. P. Pratt and J. Bass},
journal= {arXiv preprint arXiv:0912.4515},
year = {2015}
}
备注
3 pages, 2 figures. To appear in Applied Physics Letters