利用双线电容器的薄膜介电常数无损测量方法
介观与纳米尺度物理
2016-11-29 v1
摘要
我们提出了一种无损方法，通过在薄膜顶部放置两根平行线测量电容，来测定沉积在基底上的薄膜的介电常数。推导了此类系统电容的精确解析公式。电容对薄膜、基底和环境介质的介电常数以及线间距离的函数依赖关系，使得该方法能够在大量参数集中测量薄膜的介电常数，而在这些参数集下先前提出的近似方法效率较低。
引用
@article{arxiv.1611.08851,
title = {Nondestructive method of thin film dielectric constant measurements by two-wire capacitor},
author = {Svitlana Kondovych and Igor Luk'yanchuk},
journal= {arXiv preprint arXiv:1611.08851},
year = {2016}
}
备注
7 pages, 5 figures