分子石墨烯中的非阿贝尔规范场与二次能带接触

石墨烯中的狄拉克费米子可以通过实施碳位点势的特定调制而受到非阿贝尔规范场的作用。人工石墨烯由在 Cu 表面顶部构建的 CO 分子晶格工程化而成，为研究这些效应提供了理想的场所。在本工作中，我们通过对称性论证展示了底层 CO 晶格必须如何变形才能获得这些规范场，并估算了它们的强度。我们还从狄拉克电子的角度讨论了阿贝尔与非阿贝尔规范场之间的根本区别，并展示了恒定（非阿贝尔）磁场如何根据实现它的规范场产生朗道能级谱或二次能带接触（这是非阿贝尔规范场的一个已知特征，称为吴 - 杨二义性）。最后，我们提出了这些效应在位点分辨态密度中的特征信号，这些信号可以在当前的分子石墨烯实验中直接测量，并讨论了在该系统中实现由相互作用诱导的二次接触对称性破缺态的前景。