石墨烯双层中源于有效非阿贝尔规范场的约束势与排斥势
介观与纳米尺度物理
2016-11-03 v1
摘要
我们研究了石墨烯双层中的剪切与应变效应，条件是晶格畸变导致双层堆叠序列产生平滑的一维调制。我们证明应变和剪切会产生特征性的Moiré图案，这些图案在大尺度上可能具有相同的视觉外观，但代表了具有完全不同电子性质的石墨烯双层。低能电子能带中的不同特征可归因于虚构非阿贝尔规范场的效应，该场模拟了堆叠顺序的平滑调制。应变和剪切双层表现出互补行为，这可以从以下事实来理解：非阿贝尔规范场在前者中充当排斥相互作用，将电子密度推离堆叠畴壁，而在剪切双层中则表现为导致电子态局域化的约束相互作用。在后一种情况下，有效规范场的存在解释了几乎平坦的低能能带的形成，其形式类似于Dirac费米子场的零阶Landau能级。对这些系统中规范场强度的估计给出了几十特斯拉量级的大小，这意味着一种稳健的物理现象，应该在适当畸变的双层样品中能够被观察到。
引用
@article{arxiv.1609.04968,
title = {Confining and repulsive potentials from effective non-Abelian gauge fields in graphene bilayers},
author = {J. Gonzalez},
journal= {arXiv preprint arXiv:1609.04968},
year = {2016}
}
备注
12 pages, 6 figures, to appear in Phys. Rev. B