原子层沉积 TiN 超导薄膜的微波特性
超导电性
2013-02-12 v1
摘要
我们通过原子层沉积法生长了厚度在 6 至 89 nm 范围内的超导 TiN 薄膜。该沉积方法使我们能够通过控制薄膜厚度来调节电阻率和临界温度。利用共面波导谐振器测量了微波特性,发现内部品质因子超过一百万,具有高面电感(5.2-620 pH),脉冲响应时间长达 100 s。薄膜的高正常态电阻率(> 100 cm)影响了超导态,从而影响了电动力学响应。我们使用经有效对破坏子修正的准粒子态密度对微波响应进行建模,一致地描述了品质因子和谐振频率随温度的变化关系。
引用
@article{arxiv.1212.4434,
title = {Microwave properties of superconducting atomic-layer deposited TiN films},
author = {P. C. J. J. Coumou and M. R. Zuiddam and E. F. C. Driessen and P. J. de Visser and J. J. A. Baselmans and T. M. Klapwijk},
journal= {arXiv preprint arXiv:1212.4434},
year = {2013}
}
备注
This manuscript is submitted to ASC 2012 Special Issue