粗糙表面不稳定生长的线性理论

在粗糙基底上进行的不稳定同质沉积被建模为线性连续理论。表面宽度 $W(t)$ 的时间演化由三个长度尺度控制：基底粗糙度特征尺度 $l_0$、台阶大小 $l_D$ 以及 Ehrlich-Schwoebel 长度 $l_{ES}$。若 $l_{ES} \ll l_D$（即台阶边缘阻力较弱）且 $l_0 \ll l_m \sim l_D \sqrt{l_D/l_{ES}}$，则 $W(t)$ 在覆盖率 $\theta_{\rm min} \sim (l_D/l_{ES})^2$ 处显示最小值，在此处初始表面宽度被缩小为 $l_0/l_m$。分析了沉积噪声与扩散噪声的作用。将结果应用于最近对 InAs 缓冲层生长实验 [M.F. Gyure 等，Phys. Rev. Lett. {\bf 81}, 4931 (1998)]。线性理论捕获了观察到的粗糙度演化总体特征，但细节时间依赖性显示出明显偏离，表明非线性作用具有显著影响。