$f(R,\phi,X)$ 厚膜的线性稳定性：张量扰动

我们探究 $f(R,\phi,X)$ 引力中的厚膜。我们得到了 $f(R,\phi,X)$ 膜的线性张量扰动方程，并表明在 $\frac{\partial f(R,\phi,X)}{\partial R}>0$ 条件下，膜对张量扰动是稳定的。为获得该理论中四阶场方程的厚膜解，我们采用重构技术。我们得到了由非正则标量场生成的特定 $f(R,\phi,X)$ 厚膜的精确解。结果表明，在特定条件下厚膜的引力子零模是局域化的。这意味着膜上可恢复四维牛顿势。我们还讨论了 $f(R,\phi,X)$ 厚膜的引力子 Kaluza-Klein 模的效应。