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速度势垒对单层MoS$_{2}$量子结构中大质量狄拉克电子输运的影响

介观与纳米尺度物理 2020-03-10 v1

摘要

利用转移矩阵法,研究了在正态/铁磁/正态单层MoS2_{2}量子结构中由速度势垒调制的自旋与谷依赖的电子输运性质。基于光学中的斯涅尔定律,我们通过改变中间铁磁区的费米速度定义速度势垒为ξ=v2/v1\xi=v_{2}/v_{1},以在该结构的电子输运过程中获得偏转条件。结果表明,自旋与谷依赖的电子极化的幅度和方向均可由速度势垒调控。当ξ>1\xi>1时可实现100%-100\%的自旋与谷依赖电子极化,而当ξ<1\xi<1时可获得100%100\%极化。此外,确定完美的自旋与谷输运总是发生在大入射角处。另外,自旋与谷依赖的电子输运在很大程度上依赖于中间铁磁区的长度kFLk_{F}L和栅电压U(x)U(x)。这些发现为设计新型自旋与谷电子器件提供了有效方法。

关键词

引用

@article{arxiv.2003.03718,
  title  = {Influence of the velocity barrier on the massive Dirac electron transport in a monolayer MoS$_{2}$ quantum structure},
  author = {X. -J. Hao and R. -Y. Yuan and J. -J. Jin and Y. Guo},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2003.03718},
  year   = {2020}
}