中文

通过DFT$+V$在二氧化钒中引入静态位点间关联效应

材料科学 2025-04-15 v1 强关联电子

摘要

我们分析了在密度泛函理论+V+V(DFT+V+V)框架内添加经验性原子间势对二氧化钒(VO2_2)结构和电子性质的影响。我们使用基于扩展Hubbard模型的DFT+V+V机制,在金红石相和单斜相以及在这两种情形之间插值的一组结构中,对最近邻钒原子施加经验性自能修正。我们观察到,沿着钒-钒链施加显式的位点间相互作用VV增强了单斜相中相关能带的特征性成键-反成键分裂,从而有利于电子二聚化和带隙的形成。然后,我们探讨了VV对结构性质和两相相对能量的影响,发现单斜相存在一个绝缘的全局能量最小值,这与实验观测一致。随着VV的增加,该最小值相对于金红石结构变得更深,从金属态到绝缘态的转变变得更加尖锐。我们还分析了将+V+V修正应用于所有或仅选定的钒-钒对,以及在单斜相和金属金红石相中的效果。我们的结果表明,DFT+V+V确实可以作为一种计算成本低廉的无偏方法来模拟VO2_2,非常适合需要大系统尺寸的研究等。

关键词

引用

@article{arxiv.2406.08947,
  title  = {Incorporating static intersite correlation effects in vanadium dioxide through DFT$+V$},
  author = {Lea Haas and Peter Mlkvik and Nicola A. Spaldin and Claude Ederer},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2406.08947},
  year   = {2025}
}