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Si-MOSFET平面磁导率:理论与实验的定量比较

强关联电子 2009-11-07 v1

摘要

在二维硅阱层中电子强相互作用体系的密度超过n=1.6×1011n=1.6 \times 10^{11} cm2^{-2}时,得出与Zala、Narozhny和Aleiner理论在平行于电子平面磁场下的导电率响应高度吻合。然而,由磁导率拟合得到的费米液参数F0σ(n)F_0^\sigma(n)和谷能级分裂ΔV(n)\Delta_V(n)虽然提供了包括符号在内的定性行为,但未能在无磁场下的导电率温度依赖性得到定量一致。我们的结果表明,当前理论形式中缺失了额外的散射过程。

关键词

引用

@article{arxiv.cond-mat/0204566,
  title  = {In-plane Magnetoconductivity of Si-MOSFET's: A Quantitative Comparison between Theory and Experiment},
  author = {S. A. Vitkalov and K. James and B. N. Narozhny and M. P. Sarachik and T. M. Klapwijk},
  journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0204566},
  year   = {2009}
}