利用原位低角横截面改善俄歇薄膜分析中的溅射深度分辨率
材料科学
2015-02-18 v1
摘要
利用标准俄歇微探针仪器,开发了一种具有增强深度分辨率的薄膜系统深度剖析非传统方法。为制备原位低角横截面,样品部分被适当的掩模覆盖。利用该掩模的边缘,样品在俄歇微探针中以接近掠入射的离子溅射。在掩模的阴影中,这产生了穿过薄膜系统的低角横截面。然后,在感兴趣的点测量常规深度剖面,其中部分薄膜系统仅被薄顶层覆盖。结果表明,该方法可显著改善深度分辨率 。
引用
@article{arxiv.1502.04832,
title = {Improved Sputter Depth Resolution in Auger Thin Film Analysis Using In Situ Low Angle Cross-Sections},
author = {Uwe Scheithauer},
journal= {arXiv preprint arXiv:1502.04832},
year = {2015}
}
备注
9 pages, 3 figures