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利用原位低角横截面改善俄歇薄膜分析中的溅射深度分辨率

材料科学 2015-02-18 v1

摘要

利用标准俄歇微探针仪器,开发了一种具有增强深度分辨率的薄膜系统深度剖析非传统方法。为制备原位低角横截面,样品部分被适当的掩模覆盖。利用该掩模的边缘,样品在俄歇微探针中以接近掠入射的离子溅射。在掩模的阴影中,这产生了穿过薄膜系统的低角横截面。然后,在感兴趣的点测量常规深度剖面,其中部分薄膜系统仅被薄顶层覆盖。结果表明,该方法可显著改善深度分辨率 δz/z\delta z / z

关键词

引用

@article{arxiv.1502.04832,
  title  = {Improved Sputter Depth Resolution in Auger Thin Film Analysis Using In Situ Low Angle Cross-Sections},
  author = {Uwe Scheithauer},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1502.04832},
  year   = {2015}
}

备注

9 pages, 3 figures