共焦溅射系统中陡峭铝形貌上α-β混合相钨薄膜的生长
材料科学
2014-10-13 v1
摘要
我们报告了在用于低温暗物质搜寻（CDMS）探测器设计的超导准粒子陷阱辅助电热反馈跃迁边缘传感器（QETs）制造中，薄膜工艺的改进。这项工作作为探测器升级项目的一部分，内容包括优化一套新的共焦溅射系统，以及开发与在300-600纳米厚、图案化的铝上沉积的40纳米厚混合相钨薄膜图案化兼容的刻蚀配方。我们发现，我们标准的放热铝湿法刻蚀配方所提供的钨/铝界面质量不佳，导致器件性能低下。我们开发了一种改进的铝湿法刻蚀配方，在保持现有器件设计的同时，有效缓解了几何台阶覆盖的限制。本文展示的数据包括采用新铝刻蚀方法获得的薄膜及器件界面的SEM和FIB图像。我们还引入了一种定量测量通过这些界面的能量收集效率的方法。
引用
@article{arxiv.1410.2611,
title = {Growth of alpha-beta phase W thin films over steep Al topography in a confocal sputtering machine},
author = {John Mark Kreikebaum and Blas Cabrera and Jeff Yen and Paul Brink and Astrid Tomada and Matt Cherry and Betty Young},
journal= {arXiv preprint arXiv:1410.2611},
year = {2014}
}
备注
9 pages; 7 figures