湍流剖析中极限深度分辨率与轮廓重建：基于 AES 和 SIMS
材料科学
2007-05-23 v1
摘要
本文综述了过去十年来定量湍流深度剖析的新进展，特别强调了在湍流深度超过 10 nm 时实现的超高深度分辨率（低于 2 nm）的实验成就。在此范围内，深度分辨率函数通常是非高斯的（即非对称的），其由三个基本参数决定：原子混合长度、粗糙度和信息深度。该文演示了所谓的混合-粗糙-信息深度（MRI）模型及其在 SIMS 和 AES 深度轮廓中的定量重建应用。通过对这三项参数的组合，预测极限深度分辨率约为 0.7-1.0 nm。目前已报告的值为 1.4-1.6 nm，而采用低能分子离子（例如使用硫六氟化物作为湍流气体）的最新方法将混合长度压低至 0.4-0.6 nm。然而，在多层结构的深度剖析中，研究表明，最小化粗糙度参数（包括混合长度的扩散）对于实现极限深度分辨率尤为重要。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0002451,
title = {Ultimate Depth Resolution and Profile Reconstruction in Sputter Profiling with AES and SIMS},
author = {S. Hofmann},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0002451},
year = {2007}
}
备注
23 pages, 8 figures,(ECASIA 99 proc., to be publ. in SIA)