用于原位测量慢离子诱导溅射的新实验装置
仪器与探测器
2013-06-06 v1
摘要
介绍了一种新的实验设备，用于研究离子束辐照诱导的溅射。溅射粒子被收集在捕集器上，并在不破坏超高真空（小于 mbar）的情况下通过俄歇电子能谱进行原位分析，从而避免了任何可能与污染相关的问题。该方法允许测量溅射产额的角分布。得益于这一新装置，现在可以研究许多元素的溅射，特别是基于碳的材料等轻元素。初步结果展示了在高定向热解石墨和钨分别被 2.8 keV 和 7 keV 的 Ar+ 束辐照下的情况。
引用
@article{arxiv.1306.1088,
title = {New experimental setup for in situ measurement of slow ion induced sputtering},
author = {P. Salou and H. Lebius and A. Benyagoub and T. Langlinay and D. Lelièvre and B. Ban-d'Etat},
journal= {arXiv preprint arXiv:1306.1088},
year = {2013}
}