基于混合泛函与半经验范德华方法研究六方氮化硼中的本征缺陷
材料科学
2015-06-15 v2
摘要
本文基于混合密度泛函理论 (DFT) 并结合 Grimme 的 DFT-D2 方法的经验色散修正，通过第一性原理计算研究了六方氮化硼 (BN) 中本征缺陷的形成能和跃迁能级。计算结果预测，在富氮和 p 型条件下，间隙硼原子是最稳定的缺陷。而当电子化学势接近宿主材料的导带底时，硼空位和间隙氮原子成为主导缺陷。然而，由于这两种补偿缺陷在 p 型和 n 型条件下均具有超深电离能级，它们将表现为非活性。
引用
@article{arxiv.1305.3400,
title = {Hybrid functional with semi-empirical van der Waals study of native defects in hexagonal BN},
author = {V. Wang and R. J. Liu and H. P. He and C. M. Yang and L. Ma},
journal= {arXiv preprint arXiv:1305.3400},
year = {2015}
}
备注
6 pages, 7 figures