通过二维蒸馏制备高质量六方氮化硼
材料科学
2020-10-27 v1
摘要
高质量二维（2D）材料的制备对于单层及其杂化材料的最终性能至关重要。六方氮化硼（h-BN）因其绝缘、致密、平整、透明且化学惰性的特点，被预期将成为关键的二维杂化与封装材料，尽管其极难达到终极质量。本文报道了一种制备单层h-BN的新方案，其质量与均匀性均优于化学气相沉积（CVD）所得材料。我们将CVD h-BN从Rh(111)上剥离并转移至洁净金属表面。BN与新衬底间的扭转角产生亚稳的moiré结构。在1000 K以上退火导致二维蒸馏，即催化剂辅助的BN从转移层边缘升华并随后凝结为更优质量的h-BN。这为远离CVD设备的高质量二维材料制备提供了一条新的低成本途径。
引用
@article{arxiv.2010.12978,
title = {High-quality hexagonal boron nitride from 2D distillation},
author = {Huanyao Cun and Zichun Miao and Adrian Hemmi and Marcella Iannuzzi and Jürg Osterwalder and Michael S. Altman and Thomas Greber},
journal= {arXiv preprint arXiv:2010.12978},
year = {2020}
}
备注
18 pages, 4 figures