面向高质量曲线掩模生成的GPU加速逆向光刻
计算机视觉与模式识别
2024-11-13 v1 光学
摘要
逆向光刻技术（ILT）已成为光掩模设计与优化的有前景方案。依托多电子束掩模写入机，ILT可创建自由形式的曲线掩模形状，提升晶圆印刷图像质量和工艺窗口。然而，大规模生产中实施曲线ILT的主要挑战是掩模规则检查，该领域目前由晶圆厂和EDA厂商开发中。尽管近期研究将掩模复杂度纳入优化过程，但多聚焦于减少电子束射击数，这与曲线ILT的目标不符。本文提出一种GPU加速的ILT算法，不仅改善轮廓质量和工艺窗口，还提高曲线掩模形状的精度。在开放基准上的实验表明，该算法相较于领先的学术ILT引擎具有显著优势。
引用
@article{arxiv.2411.07311,
title = {GPU-Accelerated Inverse Lithography Towards High Quality Curvy Mask Generation},
author = {Haoyu Yang and Haoxing Ren},
journal= {arXiv preprint arXiv:2411.07311},
year = {2024}
}
备注
10 pages, 5 figures, Accepted by International Symposium on Physical Design (ISPD), 2025, Austin TX