辐射诱导缺陷动力学下非晶薄膜的流动性与形貌稳定性
软凝聚态物质
2025-10-14 v1 介观与纳米尺度物理
斑图形成与孤子
摘要
对离子辐照非晶薄膜的模型常将其视为高度粘性流体。在此类模型中，人们关心离子增强的流动性，这是指自由界面释放表面能的能力。受动力学问题的启发，离子增强的流动性几乎普遍被视为整个非晶层中的常数。然而，对于辐照薄膜，流动性最终是由薄膜内部的辐射诱导缺陷动力学造成的，这导致具有更大或更小流动性的区域，并对离子能量、种类、通量、辐照角度、温度以及其他实验参数表现出敏感依赖。本文我们发展并分析了一个将辐射诱导缺陷动力学耦合到粘性薄膜连续方程的模型。使用真实的参数值，我们表明缺陷动力学可以显著性地改变表面松弛和离子增强流动性的理论预测。讨论了将理论与实验工作对齐的意义，特别是针对由低能氙离子诱导的硅表面纳米图案化。
引用
@article{arxiv.2510.10745,
title = {Fluidity and morphological stability of an amorphous thin film with radiation-induced defect kinetics},
author = {Tyler P. Evans and Eden Heyen},
journal= {arXiv preprint arXiv:2510.10745},
year = {2025}
}