离子辐照硅中的应力诱导图案：基于各向异性塑性流动的模型
数学物理
2015-06-05 v1 材料科学
math.MP
摘要
我们提出了一个基于离子诱导各向异性塑性流动机制的模型，用于描述应力对在离子辐照硅顶部形成的薄非晶薄膜的影响。该模型仅使用直接测量或已知高精度的参数，其预测的实验观测图案波长与实验结果吻合极好，并在波纹传播速度的有限数据上定性一致。我们在其他最近被理论化以解释波长的机制背景下讨论了该模型的预测，包括与另一种应力模型的广泛比较。
引用
@article{arxiv.1207.5754,
title = {Stress-induced patterns in ion-irradiated Silicon: a model based on anisotropic plastic flow},
author = {Scott A. Norris},
journal= {arXiv preprint arXiv:1207.5754},
year = {2015}
}